集成电路材料是芯片产业的核心竞争力所在，光刻胶是集成电路制造的核心材料，被誉为半导体材料皇冠上的明珠，在新型显示、印制电路板等泛半导体领域也有着广泛应用。当前全球半导体产业正处于技术代际更迭与供应链格局重构的关键时期，以光刻胶为核心的集成电路材料，技术突破直接关系到我国集成电路产业的自主可控能力与供应链安全。随着产业发展，国内光刻胶产业取得了不少突破，产业正从起步阶段逐步向中高端市场迈进，但是面临原材料获取、配方技术、设备、客户验证等方面的难题，制约行业发展的瓶颈依然较多。

　　为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流，11月20日-21日，由电子化工新材料产业联盟主办，杭州湾上虞经济技术开发区、北京八亿时空液晶科技股份有限公司、中巨芯科技股份有限公司、光界咨询(OPTO)支持的“2025·光刻胶及集成电路材料先进技术和产业应用研讨会”在绍兴上虞成功举办。

　　开幕式现场，工信部电子科技委副主任委员、中国工程院战略咨询中心特聘专家肖华，中国电子材料行业协会常务副秘书长、电子化工新材料产业联盟秘书长鲁瑾，上海集成电路材料研究院产业专家、集成电路材料创新联合体秘书长冯黎，清华大学徐宏副教授，上海大学李浩源教授，北京八亿时空液晶科技股份有限公司董事长赵雷，上虞区委常委、杭州湾上虞经济技术开发区党工委书记阮程华，上虞区人民政府党组成员、杭州湾上虞经济技术开发区管委会主任蒋金祥等领导嘉宾出席，电子化工新材料产业联盟副理事长，湖北鼎龙控股股份有限公司副总裁黄金辉主持。

　　黄金辉

　　鲁瑾秘书长在致辞中表示，集成电路材料不仅是芯片制造的基石，更是当前推动产业迈向更高算力与能效的核心引擎，近年来，国内集成电路材料取得明显进步。光刻胶作为电子领域微细图形加工的关键性材料，其技术水平直接关系到我国集成电路、新型显示等战略性新兴产业的创新步伐与安全底线。回顾“十四五”，ArF光刻胶已有部分产品开始批量供货，通过验证的产品型号持续增加，实现了新的跨越；KrF光刻胶多个厂商产品持续销售，整体国内市占率不断提升。然而，我们也应清醒地认识到，高端光刻胶国内厂商市占依然较低，与国际先进水平相比，整体竞争力依然不足，关键原材料和装备高度依赖进口的局面尚未根本改变，都是我们必须攻克的壁垒。

　　鲁 瑾

　　鲁瑾秘书长在致辞中强调，彼时，我们刚刚迎来《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》的发布，这份纲领性文件为我们光刻胶产业指明了迈向新高度的战略路径。展望“十五五”，我们将迎来前所未有的机遇，也面临着严峻的挑战。我们必须紧紧围绕国家战略部署凝聚合力，实现决定性突破。

　　阮程华常委在致辞中对上虞区光刻胶及集成电路材料产业的发展做出了展望，对各位行业专家学者、企业家支持上虞大力发展光刻胶及集成电路材料产业提出了殷切希望。

　　阮程华

　　在主题论坛环节，上海集成电路材料研究院产业专家、集成电路材料创新联合体秘书长冯黎，甬江实验室张瓦利研究员，上海艾深斯科技有限公司胡宇峰首席执行官，上海大学微电子学院李浩源教授，上海八亿时空先进材料有限公司陈争明常务副总经理，江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司聂俊董事长，中巨芯科技股份有限公司何永根副总经理等多位权威专家、学者及企业家围绕光刻胶的多元应用场景、各类技术路线及产业链配套，作前沿技术、市场趋势与行业前景的深度报告。

　　会议还设立“光刻胶产业链及配套材料”与“聚焦AI算力时代 集成电路用湿电子化学品及电子特气”两大专题论坛，为与会代表提供前瞻洞察与思想碰撞的平台，现场交流气氛热烈，成果丰硕。

　　会议期间，还安排了与会嘉宾赴杭州湾联合创新中心、浙江晶盛机电（300316）股份有限公司、浙江八亿时空先进材料有限公司和国科（浙江）新材料中试平台实地考察，嘉宾们收获颇多。

　　本次会议，以“光刻突围 材聚绍兴”为主题，紧扣产业痛点，致力于构建高效的产学研用协同平台，推动上下游企业深度交流与务实合作，促进创新资源共享与优势互补，加快核心技术的研发突破与产业化应用进程，汇聚了来自产业链上下游、产学研各环节的逾一百五十家单位、近三百位顶尖专家学者与企业嘉宾，共谋光刻胶及集成电路材料的创新与产业突破。