尼康宣布开发新款半导体后端工艺数字光刻机:1.5μm 分辨率,效率提升 30%利好

2026-06-09 14:53:08
来源:IT之家
分享
文章提及标的
半导体--
光刻机--

IT之家6月9日消息,尼康(Nikon)在2025年7月的时候曾宣布推出其首款面向半导体(881121)后端工艺的图案化系统DSP-100,这一设备拥有1μm分辨率和每小时50片510mm×515mm基板的处理器能力。

而在当地时间本月5日,尼康宣布将开发一款分辨率较低(1.5μm)但生产效率至少高出30%(每小时65片基板)的数字光刻机(886054)。其与DSP-100共享技术平台,但有着不同的优势。

尼康表示,面板级封装(PLP)以其高生产效率正日益受到后端工艺企业的青睐;与此同时,用于连接多个芯片的大型中介层(Interposer)和FC-BGA基板的布线要求也因客户工艺的不同而日益多样化。

不同应用场景对布线分辨率的要求各不相同,特化的针对性设备可更好满足客户的差异化需求。另一方面,由于两者基础一致,新机台也可通过更换光学系统实现与DSP-100一致的1μm分辨率,在长期使用中提供额外灵活性。

免责声明:风险提示:本文内容仅供参考,不代表同花顺观点。同花顺各类信息服务基于人工智能算法,如有出入请以证监会指定上市公司信息披露平台为准。如有投资者据此操作,风险自担,同花顺对此不承担任何责任。
homeBack返回首页
不良信息举报与个人信息保护咨询专线:10100571违法和不良信息涉企侵权举报涉算法推荐举报专区涉青少年不良信息举报专区

浙江同花顺互联信息技术有限公司版权所有

网站备案号:浙ICP备18032105号
证券投资咨询服务提供:浙江同花顺云软件有限公司 (中国证监会核发证书编号:ZX0050)
AIME
举报举报
反馈反馈